该晶圆制作厂设在西北地方，主要是工作8屏幕尺寸半导晶圆，单日污废水 排出量约800吨。考虑到工作进程中食用广泛氢佛酸去晶圆蚀刻，形成污废水 中氟化物密度将高达200-300mg/L，远超中国排出细则（10mg/L之下）。 废污水营养成分及原因 废污水基本发源八个关键点： 晶圆蚀刻步骤 ：含濃度值氟化物（HF）、盐酸及多量巨资属 化工机械制造打蜡 （CMP）工业废水 ：含納米级硅粒子、可挥发络合剂 机器刷洗化工废水 ：含异丙醇、氯离子等生产物 解决新工艺工作流程 采取"有机化学积淀自己+混凝土积淀自己+深浅油烟净化器"3级加工装置： 第一外理 ：加药氯化钙和氢阳极氧化钙，组成氟化钙奠定，氟化物去掉率达85% 下级补救 ：生成PAC（汇聚氯化铝）和PAM（聚乙烯酰胺），删去溶液态弄脏物 3级治疗 ：经由多有机溶剂滤水器和活性氧炭吸出，水流氟化物含量可靠在8mg/L一下 最为关键的机器设备分为：pH自動可以调节程序、斜管滤渣池、板框压泥机（生活污水脱水过滤）。 最中特效 产品运作五年期探测数据库信息显示： 氟化物峰值溶液浓度：7.2mg/L（降到的国家基准） COD删去率：92% 活性污泥水分含量率：≤65% 年回收运用氟化钙副货品约150吨，建立自然资源化再生运用