某半导体行业基带芯片生产制造厂在晶圆生产制造工作中，适用硅烷进行硅概念发育，氮氧化合物洗條塔产生了高酸度含硅废液治理 工艺。废液治理 工艺极具pH上下波动大（2-11）、硅含氧量高的基本特征，传统式治理 办法易有硅垢空气能管道堵塞困难。 废液有效成分及由来 废水处理方法其主要营养成分为： 熔化分解性硅酸盐 ：SiO₂盐浓度达1000-1500mg/L 浓盐酸/氢阳极氧化钠 ：清洗塔腐蚀性清洗液农药残留 小粒硅 ：纳米级级SiO₂悬浊液 痕量砷 ：材料杂物带进 外理加工注意事项 企业创新选取"二级采和+膜滤水+蒸发掉晶体"加工过程： 四级采和 ：用CaO上下调整pH至4-5，制成硅酸钙沉积，硅的还原率60%。 二次元中合 ：加Na₂CO₃将pH增强至9，进三步沉垫结余硅，串联用镁剂除砷。 反渗透膜控制系统 ：0.02μm淘瓷膜油烟净化器奈米级硅颗料，通量稳定性高在80LMH。 MVR蒸馏器 ：浓缩造成高盐化工废水，凝结出Na₂SO₄副车辆，水中水回用率超90%。 之后体验 总硅从1500mg/L减至5mg/L如下 砷水分含量从0.8mg/L下降0.01mg/L 软件无水垢启动可超过2年 第一年回收公司盐酸钠结晶体约800吨